退火爐 是在半導體器件制造中運用的一種工藝,其包含加熱多個半導體晶片以影響其電功能。熱處理是針對差異的功效而設計的。不妨加熱晶片以激活混雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉淀的薄膜,改變生長的薄膜的形態(tài),修復注入的損傷,移動混雜劑或?qū)⒒祀s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。那么退火爐的熱源分為哪幾個類型呢?下面是中門子小編總結(jié)出了以下幾點:
退火爐 不妨集成到其余爐子處理步調(diào)中,例如氧化,或許不妨自身處理。退火爐是由特意為加熱半導體晶片而設計的設備完畢的。退火爐是節(jié)能型周期式功課爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),選用纖維結(jié)構(gòu),節(jié)電60%。
退火爐按熱源分類重點有電熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、天然氣退火爐、煤氣退火爐等,當中以自備煤氣產(chǎn)生爐所產(chǎn)煤氣退火爐使用最平凡。煤氣退火窯減去了焚燒室,直接利用煤氣燒嘴在加熱室放射焚燒。為了降低能耗,煤氣退火窯往往配有換熱體系,將空氣轉(zhuǎn)換為助燃熱風進行煤氣的助燃。
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